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Fabrication of 5nm linewidth and 14nm pitch features by nanoimprint lithography
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网址
https://doi.org/10.1063/1.1766071
DOI
10.1063/1.1766071 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Michael D. Austin; Haixiong Ge; Wei Wu; Mingtao Li; Zhaoning Yu; et al
出版日期：2004-06-17
求助人
从雪 在 2026-06-16 13:06:07 发布自湖北，悬赏 10 积分
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