| 标题 |
Ti, Zr, and Hf-based molecular hybrid materials as EUV photoresists |
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10.1117/12.2297167
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| 其它 |
期刊:Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX 作者:Sonia Castellanos Ortega; Lianjia Wu; Milos Baljozovic; Giuseppe Portale; Dimitrios Kazazis; et al 出版日期:2018-03-19 |
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(2025-6-4)