Electrical Performance and Reliability Analysis of Vertical GaN Schottky Barrier Diodes with Dual-ion Implanted Edge Termination

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标题	Electrical Performance and Reliability Analysis of Vertical GaN Schottky Barrier Diodes with Dual-ion Implanted Edge Termination 相关领域材料科学光电子学氮化镓外延肖特基二极管击穿电压二极管肖特基势垒离子注入可靠性（半导体）离子图层（电子）电压电气工程纳米技术化学功率（物理）工程类有机化学物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.chip.2024.100105 AI链接 doi.orgdoi.org
DOI	10.1016/j.chip.2024.100105 doi
其它	期刊：Chip 作者：Bo Li; Jinpei Lin; Linfei Gao; Zhengweng Ma; Huakai Yang; et al 出版日期：2024-07-01
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