Close atomic surface of titanium alloy produced by novel photocatalytic chemical mechanical polishing using developed SiO2@Al2O3@CeO2 composite abrasives with high material removal rate

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标题	Close atomic surface of titanium alloy produced by novel photocatalytic chemical mechanical polishing using developed SiO2@Al2O3@CeO2 composite abrasives with high material removal rate
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.163436
DOI	10.1016/j.apsusc.2025.163436 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Shuai Zhang; Dong Wang; Feng Zhao; Zhenyu Zhang; Hongxiu Zhou; et al 出版日期：2025-05-04
求助人	Tyeon2003 在 2026-10-07 16:42:55 发布自河北，悬赏 10 积分
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