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About the intrinsic resistance variability in HfO2-based RRAM devices |
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期刊:2017 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (EUROSOI-ULIS) 作者:C. Cagli; G. Piccolboni; D. Garbin; A. Grossi; G. Molas; et al 出版日期:2017-07-11 |
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