Line edge roughness dependence on normalized image log-slope for line/space pattern

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标题	Line edge roughness dependence on normalized image log-slope for line/space pattern
网址	https://doi.org/10.1117/12.3066108
DOI	10.1117/12.3066108 doi
其它	期刊：Optical and EUV Nanolithography XXXVIII 作者：Ziyu Zhou; Rohit Kothari; Viviana Agudelo; Ranjan Khurana; Martin Burkhardt; Claire van Lare 出版日期：2025
求助人	HFD 在 2026-02-21 22:33:05 发布自浙江，悬赏 20 积分
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