| 标题 |
 Density functional analysis of oxide dipole layer voltage shifts in high κ/metal gate stacks 相关领域
氧化物
电负性
材料科学
带隙
密度泛函理论
费米能级
栅氧化层
偶极子
金属
阈值电压
电极
凝聚态物理
场效应晶体管
电子能带结构
半导体
光电子学
晶体管
电子
电压
化学
计算化学
电气工程
物理
物理化学
冶金
有机化学
量子力学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：Ruyue Cao; Zhaofu Zhang; Yuzheng Guo; John Robertson 出版日期：2023-08-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Criminology34
清飏
ccm
lsl
方汀
无极微光
哈哈
tuanheqi
米粉好好吃
轨迹
舒心凡
乐空思
null
CodeCraft
VDC
嘿嘿
寻道图强
ShmilyLJQ
浮游
MchemG
走啊走
优美紫槐
xu
dawnfrf
皖公网安备34019202002308
