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  Atomic Layer Deposition of Titanium Oxide-Based Films for Semiconductor Applications—Effects of Precursor and Operating Conditions 半导体用氧化钛基薄膜的原子层沉积。前驱体和操作条件的影响
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期刊：Materials 作者：Vladyslav Matkivskyi; Oskari Leiviskä; Sigurd Wenner; Hanchen Liu; Ville Vähänissi; et al 出版日期：2023-08-08 |
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