| 标题 |
 Optical characterization of hydrogenated amorphous silicon thin films deposited at high rate 高速沉积氢化非晶硅薄膜的光学特性
相关领域
材料科学
折射率
非晶硅
表面粗糙度
薄膜
无定形固体
等离子体增强化学气相沉积
表面光洁度
硅
光学
化学气相沉积
衰减系数
光电子学
复合材料
晶体硅
化学
纳米技术
有机化学
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Electronic Materials 作者：S.H. Lin; Y. C. Chan; D.P. Webb; Yun Wah Lam 出版日期：1999-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
22336
Nole
Copyright
cdercder
碧蓝破茧
OK
行走的荷尔蒙
arniu2008
水牛
pokexuejiao
AI占领世界
xiaxiaxia
ale
yjh123
笑点低的云朵
昏睡的蟠桃
愉快的真
sagitar
猪猪hero
皖公网安备34019202002308
