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标题
Efficient access to non-damaging GaN (0001) by inductively coupled plasma etching and chemical–mechanical polishing
通过电感耦合等离子体刻蚀和化学机械抛光有效获取非损伤GaN（0001）
相关领域
感应耦合等离子体 抛光 化学机械平面化 蚀刻（微加工） 等离子体 材料科学 等离子体刻蚀 等离子体原子发射光谱 冶金 纳米技术 光电子学 图层（电子） 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.161207
DOI
10.1016/j.apsusc.2024.161207 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Qiubo Li; Shouzhi Wang; Lei Liu; Kepeng Song; Jiaoxian Yu; et al
出版日期：2024-09-10
求助人
英吉利25 在 2025-08-21 13:33:19 发布自天津，悬赏 10 积分
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