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![]() 使用叠加HiPIMS和MF技术制备Ti涂层:目标中毒比和MF/HiPIMS脉冲时间比的影响
相关领域
高功率脉冲磁控溅射
锡
材料科学
微观结构
薄膜
溅射沉积
分析化学(期刊)
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冶金
纳米技术
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期刊:Surface and Coatings Technology 作者:Bih-Show Lou; Muthaiah Annalakshmi; Yu-Wen Su; Wun-Sian Yang; Jyh‐Wei Lee 出版日期:2024-01-08 |
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2025-07-17 13:25:30 发布,悬赏 10 积分
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