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 A complementary lithographic simulation method for improved yields following full-chip DRC 全芯片DRC后提高成品率的互补光刻模拟方法
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Peter Nikolsky; Rama Tweg; Mike Pochkowski 出版日期：2004-12-06 |
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