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Clean SiO2 atomic layer etching based on physisorption of high boiling point perfluorocarbon |
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期刊:Nanoscale 作者:Dain Sung; Hyunwoo Tak; Heeju Kim; Dongwoo Kim; Kyongnam Kim; et al 出版日期:2024-01-01 |
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(2025-6-4)