Perspectives and tradeoffs of absorber materials for high NA EUV lithography

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标题	Perspectives and tradeoffs of absorber materials for high NA EUV lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.19.4.041001
DOI	10.1117/1.jmm.19.4.041001 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 作者：Andreas Erdmann; Hazem Mesilhy; Peter Evanschitzky; Vicky Philipsen; Frank Timmermans; et al 出版日期：2020-10-01
求助人	风中的又菱在 2026-08-11 17:45:57 发布自吉林，悬赏 20 积分
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