| 标题 |
Negative photoresist for 157-nm microlithography; a progress report |
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| DOI |
10.1117/12.474187
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| 其它 |
期刊:SPIE Advanced Lithography 作者:W. Conley; Brian C. Trinque; D. Miller; P. Zimmerman; T. Kudo; et al 出版日期:2002-01-01 |
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(2025-6-4)