Preferred Orientation of Chemical Vapor Deposited Polycrystalline Silicon Carbide Films

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标题	Preferred Orientation of Chemical Vapor Deposited Polycrystalline Silicon Carbide Films
网址	https://doi.org/10.1002/1521-3862(20020503)8:3
DOI	10.1002/1521-3862(20020503)8:3 doi
其它	期刊：Chemical Vapor Deposition 作者：Y. Kajikawa; S. Noda; H. Komiyama 出版日期：2002-05-03
求助人	某辉睡不着在 2026-07-16 14:55:48 发布自广东，悬赏 10 积分
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