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[高分] Kinetic Processes in the CVD of SiC from CH3SiCl3-H2 in a Vertical Hot-Wall Reactor
网址
https://doi.org/10.1051/jphyscol:1995510
DOI
10.1051/jphyscol:1995510 doi
其它 期刊：Journal de physique
作者：F. Langlais; F. Loumagne; D. Lespiaux; Sylvie Schamm‐Chardon; R. Naslain
出版日期：1995-06-01
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忧心的乐瑶 在 2026-08-25 16:49:23 发布自湖南，悬赏 50 积分
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