| 标题 |
 Semiconductor WO3 thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering 脉冲反应性磁溅镀法沉积半导体WO3薄膜
相关领域
材料科学
溅射
半导体
光电子学
薄膜
溅射沉积
腔磁控管
高功率脉冲磁控溅射
工程物理
纳米技术
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Aneta Písaříková; Hana Krýsová; Anna Kapran; P. Písařík; Martin Čada; et al 出版日期：2024-11-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
无极微光
xing_xing
Kao
aaaa
OK
yz
小高
东方元语
修仙中
arniu2008
馨馨的科科
wwww
渡人舟
Dean
学术文献互助
Nole
GingerF
Criminology34
aajhajkahna
皖公网安备34019202002308
