| 标题 |
Fluorocarbon high density plasmas. VII. Investigation of selective SiO2-to-Si3N4 high density plasma etch processes 碳氟化合物高密度等离子体。VII.选择性SiO2-Si3N4高密度等离子体刻蚀工艺的研究
相关领域
氟碳化合物
X射线光电子能谱
氟
等离子体
化学
选择性
蚀刻(微加工)
分析化学(期刊)
氢
等离子体刻蚀
化学工程
有机化学
工程类
物理
图层(电子)
量子力学
催化作用
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Ying Zhang; G. S. Oehrlein; F. H. Bell 出版日期:1996-07-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|