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(Invited) Schematic Description of the Internal Stress Distribution Responsible for Defect Generation in Larger-Diameter PVT-Grown 4H-SiC Single Crystals 相关领域
材料科学
位错
残余应力
压力(语言学)
Crystal(编程语言)
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工程物理
凝聚态物理
复合材料
结构工程
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工程类
物理
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哲学
语言学
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期刊:Meeting abstracts 作者:Tatsuo Fujimoto; Masashi Nakabayashi; Shohji Ushio; Komomo Tani; Masakazu Katsuno; et al 出版日期:2016-09-01 |
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