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 Mechanisms of isotropic and selective etching between SiGe and Si SiGe和Si的各向同性和选择性刻蚀机制
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：V. Caubet; C. Beylier; S. Borel; O. Renault 出版日期：2006-11-27 |
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