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 Mechanism of highly selective etching of SiCN by using NF 3 /Ar-based plasma 相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
等离子体刻蚀
反应离子刻蚀
图层（电子）
化学工程
锡
氟
X射线光电子能谱
分析化学（期刊）
等离子体
干法蚀刻
各向同性腐蚀
表面改性
氟化铵
氟化物
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(2025-6-4)
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