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标题
[高分] Process and characterization of (Pb,La)TiO3 thin films deposited by MOCVD for gigabit DRAM application
相关领域
金属有机气相外延 德拉姆 千兆位 表征（材料科学） 材料科学 薄膜 光电子学 过程（计算） 纳米技术 电子工程 计算机科学 工程类 外延 操作系统 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1051/jp4:1998953
DOI
10.1051/jp4:1998953 doi
其它 期刊：Journal de Physique IV (Proceedings)
作者：S.-S. Lee; Y.-M. Kang; J Lee; Dong-Ho Lee; H.-G. Kim
出版日期：1998-12-01
求助人
JJJJJJJJJ 在 2025-10-28 14:53:05 发布自海南，悬赏 50 积分
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