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 Influence of oxygen co-implantation on germanium out-diffusion and nanoclustering in SiO2/Si films 氧共注入对SiO2/Si薄膜中锗向外扩散和纳米团簇的影响
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期刊：Thin Solid Films 作者：A. Nélis; Émile Haye; G. Terwagne 出版日期：2022-02-09 |
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廉三问
在
2025-08-29 16:10:35 发布，悬赏 10 积分
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