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![]() 与BEOL工艺兼容的亚6 nm铁电Hf0.5Zr 0.5 O2/ZrO2/Hf0.5Zr0.5O2堆叠膜的增强铁电性和可靠性
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期刊:ACS Applied Electronic Materials 作者:Yinchi Liu; Jining Yang; Hao Zhang; Dmitriy Anatolyevich Golosov; Chenjie Gu; et al 出版日期:2024 |
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