Target Voltage Hysteresis Behavior and Control Point in the Preparation of Aluminum Oxide Thin Films by Medium Frequency Reactive Magnetron Sputtering

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标题	Target Voltage Hysteresis Behavior and Control Point in the Preparation of Aluminum Oxide Thin Films by Medium Frequency Reactive Magnetron Sputtering
网址	http://dx.doi.org/10.3390/coatings8040146
DOI	10.3390/coatings8040146 doi
其它	期刊：Coatings 作者：Qingfu Wang; Liping Fang; Qinghe Liu; Lin Chen; Qinguo Wang; et al 出版日期：2018-04-18
求助人	杨小小在 2026-11-04 10:39:37 发布自江苏，悬赏 10 积分
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