Complementary use of atom probe tomography (APT) and differential hall effect metrology (DHEM) for activation loss in phosphorus-implanted polycrystalline silicon

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标题	Complementary use of atom probe tomography (APT) and differential hall effect metrology (DHEM) for activation loss in phosphorus-implanted polycrystalline silicon
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.scriptamat.2023.115877
DOI	10.1016/j.scriptamat.2023.115877 doi
其它	期刊：Scripta Materialia 作者：Kun-Lin Lin; Fa-Yan Lee; Yi-Meng Chen; Yu-Jen Tseng; Hung-Wei Yen 出版日期：2024-03-01
求助人	lwj 在 2026-10-30 02:14:53 发布自江苏，悬赏 10 积分
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