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Future of plasma etching for microelectronics: Challenges and opportunities |
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期刊:Journal of vacuum science and technology 作者:Gottlieb S. Oehrlein; Stephan M. Brandstadter; Robert L. Bruce; Jane P. Chang; Jessica C. DeMott; et al 出版日期:2024-06-07 |
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(2025-6-4)