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 Subatmospheric chemical vapor deposition ozone/TEOS process for SiO2 trench filling 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者：I. A. Shareef; G. W. Rubloff; M. Anderle; W. N. Gill; J. Cotte; et al 出版日期：1995-07-01 |
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