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Electrical Analysis of Atomic Layer Deposited Thin HfO2 and HfO2/Ta2O5-Based Memristive Devices |
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Sanjay Kumar; Deepika Yadav; Rahul Ramesh; Spyros Stathopoulos; Andreas Tsiamis; et al 出版日期:2025-04-01 |
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(2025-6-4)