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标题
Electrical Analysis of Atomic Layer Deposited Thin HfO2 and HfO2/Ta2O5-Based Memristive Devices
网址
DOI
10.1109/ted.2025.3539256 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Electron Devices
作者:Sanjay Kumar; Deepika Yadav; Rahul Ramesh; Spyros Stathopoulos; Andreas Tsiamis; et al
出版日期:2025-04-01
求助人
金秋雨 在 2026-10-27 14:04:13 发布自江西,悬赏 10 积分
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