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标题
Native point defects in yttria and relevance to its use as a high-dielectric-constant gate oxide material: First-principles study
氧化钇中的原生点缺陷及其作为高介电常数栅极氧化物材料的相关性：第一性原理研究
相关领域
钇 材料科学 晶体缺陷 氧化物 氧气 费米能级 凝聚态物理 电介质 带隙 硅 氧化钇稳定氧化锆 半导体 物理 光电子学 冶金 立方氧化锆 陶瓷 量子力学 电子
网址
https://doi.org/10.1103/physrevb.73.104101
DOI
10.1103/physrevb.73.104101 doi
其它 期刊：Physical Review B
作者：Jie Zheng; Gerbrand Ceder; Thomas Maxisch; W. K. Chim; W. K. Choi
出版日期：2006-03-03
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jxl 在 2025-07-23 20:48:02 发布自湖南，悬赏 10 积分
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