P‐7.4: Influence of Annealing on Electrical Properties of ITO‐Decapped a‐Si:H TFT

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标题	P‐7.4: Influence of Annealing on Electrical Properties of ITO‐Decapped a‐Si:H TFT P-7.4：退火对ITO去帽的a-Si：H TFT的电性能的影响相关领域退火（玻璃）薄膜晶体管材料科学接触电阻无定形固体电阻率和电导率非晶硅离子杂质光电子学晶体管硅电极化学工程分析化学（期刊）纳米技术复合材料结晶学化学电气工程物理化学晶体硅电压工程类有机化学色谱法图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1002/sdtp.16391
DOI	10.1002/sdtp.16391 doi
其它	期刊：SID Symposium Digest of Technical Papers 作者：Xu Luo; Dan Liu; Wenxiang Chen; Faling Ling; Fang Wu; et al 出版日期：2023-04-01
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