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Effect of bias voltage on the growth of super-hard (AlCrTiVZr)N high-entropy alloy nitride films synthesized by high power impulse magnetron sputtering
偏压对大功率脉冲磁控溅射合成超硬（AlCrTiVZr）N高熵合金氮化物薄膜生长的影响
相关领域
高功率脉冲磁控溅射 材料科学 偏压 溅射沉积 氮化物 分析化学（期刊） 离子 合金 溅射 等离子体 微观结构 粒度 复合材料 电压 薄膜 纳米技术 化学 电气工程 物理 工程类 量子力学 有机化学 色谱法 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.150417
AI链接 ac.cn ac.cndoi.org
DOI
10.1016/j.apsusc.2021.150417 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Yi Xu; Guodong Li; Guang Li; Fangyuan Gao; Xia Yuan
出版日期：2021-06-19
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修行 在 2025-11-10 07:13:21 发布自中国，悬赏 10 积分
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