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标题
Defect localization of metal interconnection lines in 3-dimensional through-silicon-via structures by differential scanning photocapacitance microscopy
相关领域
互连 通过硅通孔 硅 电容 材料科学 显微镜 光电子学 直线（几何图形） 扫描电容显微镜 微分电容 扫描电子显微镜 光学 扫描共焦电子显微镜 化学 计算机科学 复合材料 物理 几何学 电极 计算机网络 物理化学 数学
网址
https://doi.org/10.1063/1.5012892
DOI
10.1063/1.5012892 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Kristof J. P. Jacobs; Michele Stucchi; V. V. Afanas’ev; Mario González; Kristof Croes; et al
出版日期：2018-02-12
求助人
陈鑫雨 在 2025-11-07 22:54:32 发布自安徽，悬赏 10 积分
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