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标题
Raman Shift of Surface Reaction and Plasma Induced Surface Damage by TNF3/BNF3 Reactive Ion Etching Process
TNF3/BNF3反应离子刻蚀过程中表面反应和等离子体诱导表面损伤的拉曼位移
相关领域
X射线光电子能谱 蚀刻（微加工） 反应离子刻蚀 拉曼光谱 材料科学 氧化物 各向同性腐蚀 纳米尺度 硅 氢 纳米技术 干法蚀刻 化学工程 分析化学（期刊） 光电子学 化学 光学 冶金 图层（电子） 环境化学 有机化学 物理 工程类
网址
https://doi.org/10.1007/s13391-022-00341-z
DOI
10.1007/s13391-022-00341-z doi
其它 期刊：Electronic Materials Letters
作者：Ho Jae Shim; Jin Seok Kim; Da Won Ahn; Jin Hyun Choe; Eunsu Jung; et al
出版日期：2022-04-06
求助人
Echo 在 2025-08-28 20:55:50 发布，悬赏 10 积分
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