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标题
Photoresist Development for 3D Printing of Conductive Microstructures via Two‐Photon Polymerization
基于双光子聚合的导电微结构3D打印光刻胶的研制
相关领域
光刻胶 材料科学 3D打印 导电体 纳米技术 制作 微观结构 导电聚合物 聚合物 复合材料 医学 病理 替代医学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1002/adma.202409326
AI链接 wiley.com nih.govdoi.org
DOI
10.1002/adma.202409326 doi
其它 期刊：Advanced Materials
作者：Xin Zhou; Xiaojiang Liu; Zhongze Gu
出版日期：2024-10-13
求助人
袁大头 在 2025-08-05 22:59:14 发布自北京，悬赏 10 积分
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  • 1小时前

    袁大头 袁大头 Lv5 求助人 发起了本次求助

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