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 Achieving Excellent Surface Passivation with J 0,s Less Than 0.5 fA cm −2 Utilizing a Carbon‐Incorporated Intrinsic Polysilicon‐Based Tunnel Oxide Passivating Contact Structure 相关领域
钝化
材料科学
薄脆饼
硅
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期刊：Small methods 作者：Hongwei Zhou; Zunke Liu; Zhenhai Yang; Ruoyi Wang; Xian Zhang; et al 出版日期：2025-06-05 |
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