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标题
On the Physical Vapour Deposition (PVD): Evolution of Magnetron Sputtering Processes for Industrial Applications
物理气相沉积（PVD）：工业应用磁控溅射工艺的发展
相关领域
物理气相沉积 材料科学 沉积（地质） 溅射沉积 蒸发 基质（水族馆） 溅射 气相沉积 冶金 摩擦学 腔磁控管 高功率脉冲磁控溅射 机械加工 纳米技术 薄膜 地质学 古生物学 物理 海洋学 热力学 沉积物
网址
https://doi.org/10.1016/j.promfg.2018.10.125
DOI
10.1016/j.promfg.2018.10.125 doi
其它 期刊：Procedia Manufacturing
作者：Andresa Baptista; F.J.G. Silva; Jacobo Porteiro; J.L. Mı́guez; Gustavo Pinto; et al
出版日期：2018-01-01
求助人
WCheng 在 2025-12-12 16:15:48 发布自河北，悬赏 10 积分
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