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标题
Comparative study of quasi-static and normal capacitance–voltage characteristics in amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide thin film transistors
非晶体In-Gall-Zn-Oxide薄膜晶体管准静态和正常电容电压特性的比较研究
相关领域
薄膜晶体管 材料科学 无定形固体 光电子学 晶体管 铟 电容 镓 阈值电压 锌 氧化物 图层（电子） 电压 电气工程 纳米技术 化学 电极 结晶学 冶金 工程类 物理化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.sse.2010.10.016
DOI
10.1016/j.sse.2010.10.016 doi
其它 期刊：Solid-State Electronics
作者：Sangwon Lee; Yong Woo Jeon; Sung‐Chul Kim; Dongsik Kong; Dae Hwan Kim; et al
出版日期：2010-11-12
求助人
坐井观天的蛙 在 2025-07-17 14:50:16 发布自四川，悬赏 10 积分
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