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[高分]
 A Study on Optimization of Planar Gate Type Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistors Multi Epitaxial Process in Super-Junction Structure 相关领域
MOSFET
击穿电压
材料科学
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期刊：Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics 作者：Chang Hyeon Jo; Dea Hee Kim; Hyeong Seong Jo; Oh‐Nam Kwon; Ey Goo Kang 出版日期：2021-05-01 |
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