| 标题 |
 Chemical mechanical glass polishing with cerium oxide: Effect of selected physico-chemical characteristics on polishing efficiency 氧化铈化学机械玻璃抛光：选定物理化学特性对抛光效率的影响
相关领域
抛光
材料科学
化学机械平面化
X射线光电子能谱
煅烧
氧化物
化学工程
结晶度
铈
氧化铈
化学状态
冶金
复合材料
化学
催化作用
生物化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Wear 作者：Pavel Janoš; Jakub Ederer; Věra Pilařová; Jiří Henych; Jakub Tolasz; et al 出版日期：2016-06-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Theprisoners
无极微光
DW
Nole
dde
Aurora
v0id
xing_xing
null
潇洒的惋清
秋风
cdercder
学术文献互助
aajhajkahna
aaaa
DOC_XIONG
云天河
arniu2008
殷勤的紫槐
初景
皖公网安备34019202002308
