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Chemical mechanical glass polishing with cerium oxide: Effect of selected physico-chemical characteristics on polishing efficiency
氧化铈化学机械玻璃抛光：选定物理化学特性对抛光效率的影响
相关领域
抛光 材料科学 化学机械平面化 X射线光电子能谱 煅烧 氧化物 化学工程 结晶度 铈 氧化铈 化学状态 冶金 复合材料 化学 催化作用 工程类 生物化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.wear.2016.05.020
DOI
10.1016/j.wear.2016.05.020 doi
其它 期刊：Wear
作者：Pavel Janoš; Jakub Ederer; Věra Pilařová; Jiří Henych; Jakub Tolasz; et al
出版日期：2016-06-02
求助人
ykk 在 2025-07-26 10:27:23 发布自北京，悬赏 10 积分
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