SiO2 etch-damage mitigation in fluorocarbon C 4 F 8 plasma: CF x polymer deposition and polyatomic ion effects

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标题	SiO2 etch-damage mitigation in fluorocarbon C 4 F 8 plasma: CF x polymer deposition and polyatomic ion effects
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.164180
DOI	10.1016/j.apsusc.2025.164180 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Shota Nunomura; Takayoshi Tsutsumi; Masaru Hori 出版日期：2025-08-07
求助人	www 在 2026-10-12 23:35:10 发布自福建，悬赏 10 积分
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