| 标题 |
 Method for monitoring high aspect ratio contact dry etching process using calibration and normalization method for optical emission spectroscopy 利用光学发射光谱的校准和归一化方法监测高纵横比接触干蚀刻工艺的方法
相关领域
材料科学
干法蚀刻
规范化（社会学）
蚀刻（微加工）
校准
光谱学
光电子学
反应离子刻蚀
分析化学（期刊）
光学
纳米技术
图层（电子）
化学
社会学
物理
统计
量子力学
色谱法
数学
人类学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：J.W. Park; Se-Jin Oh; Sung-Ho Jang; Dougyong Sung; Jin-Young Bang; et al 出版日期：2025-06-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
cdercder
Nole
xing_xing
Dean
XX
aaaa
学术文献互助
8R60d8
DOC_XIONG
飞快的千万
OK
sagitar
馨馨的科科
修仙中
小鱼爱吃肉
bai
huang
arniu2008
6666
皖公网安备34019202002308
