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A Study of Parameters Related to the Etch Rate for a Dry Etch Process Using NF3/O2and SF6/O2 |
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期刊:Advances in Materials Science and Engineering 作者:Seon-Geun Oh; Kwang-Su Park; Young-Jun Lee; Jae-Hong Jeon; Hee-Hwan Choe; Jong-Hyun Seo 出版日期:2014-02-05 |
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