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 Evidence for anti-synergism between ion-assisted etching and in-plasma photoassisted etching of silicon in a high-density chlorine plasma 相关领域
X射线光电子能谱
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Emilia W. Hirsch; Linfeng Du; Demetre J. Economou; Vincent M. Donnelly 出版日期：2020-01-30 |
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