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 Direct metal etch of ruthenium for advanced interconnect 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Sara Paolillo; Danny Wan; Frédéric Lazzarino; Nouredine Rassoul; Daniele Piumi; et al 出版日期：2018-05-01 |
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