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  Growth of α-In2O3 films with different concentrations of In2O3 powder used as source precursor by mist chemical vapor deposition 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Akito Taguchi; T. Yamamoto; Kentaro Kaneko; Ken Goto; Takeyoshi Onuma; et al 出版日期：2023-02-24 |
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