Multi-diagnostic characterization of inductively coupled discharges with tailored waveform substrate bias for precise control of plasma etching

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标题	Multi-diagnostic characterization of inductively coupled discharges with tailored waveform substrate bias for precise control of plasma etching
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6595/ae2158
DOI	10.1088/1361-6595/ae2158 doi
其它	期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Jonas Giesekus; Anton Pletzer; Florian Beckfeld; Katharina Noesges; Claudia Bock; Julian Schulze 出版日期：2025
求助人	byyyy 在 2026-05-18 23:43:48 发布自陕西，悬赏 10 积分
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