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 Interfacial Control and Modulation of Band Alignment of Atomic Layer Deposition-Derived HfO<SUB>2</SUB>/Si Gate Stack by Rapid Thermal Annealing 相关领域
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期刊：Science of Advanced Materials 作者：Hehe Wei; Gang He; Maoxing Liu; Y. M. Liu; M. Zhang; et al 出版日期：2014-12-01 |
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