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标题
Influence of Processing Time in Hydrogen Plasma to Prepare Gallium and Aluminum Codoped Zinc Oxide Films for Low-Emissivity Glass
氢等离子体处理时间对制备低发射率玻璃用镓铝共掺杂氧化锌薄膜的影响
相关领域
材料科学 发射率 镓 等离子体 透射率 电阻率和电导率 低发射率 铝 溅射 光学 光电子学 薄膜 复合材料 冶金 图层（电子） 纳米技术 工程类 物理 电气工程 量子力学
网址
https://www.mdpi.com/2079-6412/12/7/945/pdf?version=16568423...
AI链接 mdpi.com mdpi.com doaj.orgdoi.org
DOI
10.3390/coatings12070945 doi
其它 期刊：Coatings
作者：Shang-Chou Chang; Jhih-Ciang Hu; Huang-Tian Chan; Chuan-An Hsiao
出版日期：2022-07-03
求助人
隐形曼青 在 2025-08-27 19:02:38 发布，悬赏 10 积分
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